不同规格的VCR堵帽请查看下方页面。

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阀体

■ 使用圆棒锻打的阀体具有高强度。

■ 内表面粗糙度可达 Ra 5µin, 完全可清扫流道 :

◆ 截流区最小化

◆ 便于吹扫

◆ 流量最大化

隔膜

■ Hastelloy® C-22 或钴基超级合金 (UNS R30003) 材料可提

供高强度和耐腐蚀性能。

■ 最优设计 , 使用寿命长。

阀座

■ 全封闭式阀座设计具有以下优点 :

◆ 优秀的抗膨胀和防污染能力

◆ 改进的氦气泄漏测试性能

◆ 极少产生颗粒

◆ 使用寿命长

■ 高清洁的组装和包装适用于高纯洁度的半导体产业。

■ 每一个产品出厂都经过氦气测试。

阀体

■ 使用圆棒锻打的阀体具有高强度。

■ 内表面粗糙度可达 Ra 5µin, 完全可清扫流道 :

◆ 截流区最小化

◆ 便于吹扫

◆ 流量最大化

隔膜

■ Hastelloy® C-22 或钴基超级合金 (UNS R30003) 材料可提

供高强度和耐腐蚀性能。

■ 最优设计 , 使用寿命长。

阀座

■ 全封闭式阀座设计具有以下优点 :

◆ 优秀的抗膨胀和防污染能力

◆ 改进的氦气泄漏测试性能

◆ 极少产生颗粒

◆ 使用寿命长

■ 高清洁的组装和包装适用于高纯洁度的半导体产业。

■ 每一个产品出厂都经过氦气测试。

■ 阀体材料：SS316L、SS304。

■ 金属对金属隔膜密封。

■ 膜片阀芯一体构造，开关更稳定。

■ 最大进口压力 :600psig。

■ 流量系数 Cv:1.8。

■ 最大流量 :2000SLPM。

PureGas F030系列高纯气体过滤器设计用于去除半导体工艺气体中的颗粒，提供优质过滤纯化解决方案。

☑️ 在洁净室环境下制造，具备洁净、稳定的工艺表现

☑️ 过滤精度达 1.5 nm（9 LRV），实现对纳米级颗粒的高效截留

☑️ 采用电解抛光316L不锈钢外壳，可承受高压

☑️ 采用以模压成型全氟烷氧基树脂（PFA）结构为支撑体的疏水性聚四氟乙烯（PTFE）滤膜，具备卓越兼容性与高效过滤性能

☑️ 具有高流量和低初始压降

☑️ 采用卷绕式膜结构，体积小巧、结构紧凑，能够有效节省设备内部宝贵的空间资源，方便安装操作

☑️ 滤芯设计及材料选择经过优化，可消除膜片形变和脱落现象，确保下游洁净度可靠

☑️ 100%氦气泄漏检测

☑️ 产品出厂前经过高纯气体吹扫，保证产品的下游颗粒洁净度

☑️ 提供VCR垫片密封和世伟洛克（Swagelok）卡套管密封两种类型，以适配大多数系统和生产设备的配置

PureGas F100系列高纯气体过滤器设计用于去除半导体工艺气体中的颗粒，提供优质过滤纯化解决方案。

☑️ 在洁净室环境下制造，具备洁净、稳定的工艺表现

☑️ 过滤精度达 1.5 nm（9 LRV），实现对纳米级颗粒的高效截留

☑️ 采用电解抛光316L不锈钢外壳，可承受高压

☑️ 采用以模压成型全氟烷氧基树脂（PFA）结构为支撑体的疏水性聚四氟乙烯（PTFE）滤膜，具备卓越兼容性与高效过滤性能

☑️具有高流量和低初始压降

☑️采用卷绕式膜结构，体积小巧、结构紧凑，能够有效节省设备内部宝贵的空间资源，方便安装操作

☑️ 滤芯设计及材料选择经过优化，可消除膜片形变和脱落现象，确保下游洁净度可靠

☑️ 100%氦气泄漏检测

☑️ 产品出厂前经过高纯气体吹扫，保证产品的下游颗粒洁净度

☑️ 提供VCR垫片密封和世伟洛克（Swagelok）卡套管密封两种类型，以适配大多数系统和生产设备的配置

PureGas F1000系列高纯气体过滤器设计用于去除半导体工艺气体中的颗粒，提供优质过滤纯化解决方案。

☑️ 在洁净室环境下制造，具备洁净、稳定的工艺表现

☑️ 过滤精度达 1.5 nm（9 LRV），实现对纳米级颗粒的高效截留

☑️采用电解抛光316L不锈钢外壳，可承受高压

☑️ 采用以模压成型全氟烷氧基树脂（PFA）结构为支撑体的疏水性聚四氟乙烯（PTFE）滤膜，具备卓越兼容性与高效过滤性能

☑️ 具有高流量和低初始压降

☑️ 采用折叠式膜结构，体积小巧、结构紧凑，能够有效节省设备内部宝贵的空间资源，方便安装操作

☑️滤芯设计及材料选择经过优化，可消除膜片形变和脱落现象，确保下游洁净度可靠

☑️ 100%氦气泄漏检测

☑️ 产品出厂前经过高纯气体吹扫，保证产品的下游颗粒洁净度

☑️ 提供VCR垫片密封和世伟洛克（Swagelok）卡套管密封两种类型，以适配大多数系统和生产设备的配置